縱觀半導體製造之各個領域，將會發現產業的需求無常，有時無法預期的轉變，需要創新的思考，才能維持摩爾定律於不變。根據德州儀器的Robert Helms所說，技術的加速開發，與增加使用先進自動化設備提升生產率，已證實是工廠維持正常運作的必要條件。而污染隔離則在提昇良率與增加彈性上扮演輔助的角色。
IBM的David Ahlgren與Basanth Jagannathan則表示，另一個新的轉變點是IBM Microelectronics已研發將近二十年的SiGe技術已逐漸與傳統CMOS製程結合，促使無線與高功能有線市場成長。
國家半導體的Mitch Sisemore表示，氣體/化學品處理系統的需求將愈來愈殷切。在設備當機已不被接受，預備維修不能妨礙正常運作，以及任何一個故障將造成毀滅性的結果的同時，他表示生產系統必須符合嚴苛的安全/衛生/環保里程碑(Roadmap)的要求。對於產業傳統技術而言，此新的里程碑(見第87頁)展現超越2005年未知的領域。此技術發展途徑可能朝向IC製造廠「奈米技術(nanotechnology)」、高電子流動(high-electron-mobility)或者單電子電晶體(single-electron transistor)、甚至分子自我重組(molecular self-assembly)等。
－Pieter “Pete”Burggraaf, Senior Technical Editor