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半導體科技 No.83

• [封面故事] 離子植入：32奈米與22奈米元件製程的新促動要素

• [AP封面故事] 影像感測模組之常見測試問題

• [SST精選] 使用氫電漿處理方法將鎳薄膜轉變成鎳奈米粒子

• [SST精選] 低介電常數多孔質形成的特性與生產線上的監測

• [技術專文] 針對22奈米及以下製程世代所需之超紫外線光源研發

• [技術專文] 降低高亮度LED大產量生產成本的晶圓粘結及檢測

• [技術專文] 軟性有機電子之塗佈與沈積技術

• [科技新知] 可靠度工程師所嚮往的境界來臨

• [科技新知] SVTC與Entrepix–將CMP業務邁進12吋市場

共1頁，第1頁，共9條

封面故事

• 晶圓廠副廠設備同步化增加節能效益

• 450mm化學機械研磨設備尺寸放大的...

• 高功率超紫外線微影光源技術已屆成熟

• 離子植入：32奈米與22奈米元件製程...

• 未來的一年：創新的時機

AP封面故事

• 影像感測模組之常見測試問題

• 銲線接合製程控制瞄準100%良率

• 積體電路封裝驅動測試技術的創新

• 2008：新的封裝技術驅動產業向前發...

• 應用於晶圓凸塊製程易使氧化層減少的銅...

SST精選 (SST Feature)

• 22奈米半節距之微影技術展望

• 用於高度佈植光阻之全濕式去除製程

• 矽基積體電路系統技術藍圖上的新興材料...

• 更重要、更複雜：微機電量測技術

• 以暫時性黏合法實現超薄晶片製程

AP精選 (AP Feature)

• 避免無助熔劑區域

• 散熱銅柱凸塊：一種熱量和電力管理的方...

• 混合多種技術電路之三維封裝設計

• 厚層銅柱凸塊製程技術

• 因應新興市場需求的封裝成形技術

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