Aviza Technology 看好亞洲市場大幅成長
文/于嘉言
為全球半導體、化合物半導體、奈米科技及其它相關市場提供半導體設備及製程技術的供應商Aviza Technology，擁有極佳的原子層沉積技術的表現。而Aviza Technology併購Trikon公司後，使沉積技術的產品線更趨完善。Aviza Technology副總裁暨ALD事業總經理Subrata Chatterji表示，由於全球為數最多的12吋晶圓廠座落於台灣，他們非常看好此一市場的大幅成長，也將投注心力在發展台灣的業務上。
目前，Aviza Technology在亞洲有超過六成的營業比重，Chatterji相信今年下半年半導體產業景氣應該會更好，而Aviza Technology的營業表現應該也會相對較佳。日前，AVIZA Techno-logy更交貨給華亞科技新一代單晶原子層沉積系統Celsior，此系統將被採用在華亞科技的晶圓一廠以生產其90與75奈米的DRAM晶片。
Chatterji表示，「這份訂單代表Aviza的原子層沉積計畫的另一個重要里程碑，並證實了目前生產環境對這一先進技術不斷增長的需求。Celsior的先進功能可更好地控制製程，並在進行量產時達到最低的運作成本，以滿足原子層沉積製造技術的一貫要求。華亞科技是Aviza的長期客戶，隨著雙方互惠合作夥伴關係的不斷深化，我們期待未來能為華亞的製造需求提供支援。」
Celsior的一項關鍵特性是其經過生產驗證的平台，該平台是Aviza與Trikon合併前，由雙方聯合開發的合作夥伴關係的結晶。同樣的軟體平台已被用於全球各地晶圓廠生產環境中的化學氣相沉積、物理氣相沉積和蝕刻系統中，此開發合作使Aviza能夠致力於研製一個為解決原子層沉積製造挑戰的製程反應室。
為確保獲得更低的運作成本，Celsior配有一個能提高量產、降低化學物質消耗量和延展製程範圍的創新反應室。Celsior的專利噴頭設計可以滿足原子層沉積嚴格的製程要求，包括在300mm晶圓上也可取得小於百分之一的厚度均勻性要求。該系統立基於一個可靠且經過現場驗證的傳輸中心，該中心包含一個強韌的控制系統。這可確保該系統的運轉時間和可用性的延長。Celsior的設計也可依需求增設製程反應室，為日後的擴充或新技術需求奠下基礎。
在更高性能和每位元更低成的雙重因素推動下，半導體產業一直不斷縮小元件體積。隨著元件體積持續縮小，對於一些需要極薄的薄膜應用，物理氣相沉積和化學氣相沉積等主流沉積技術已經達到其技術極限。原子層沉積則可突破這樣的技術極限，也是唯一能實現電子元件不斷縮小的沉積技術。
原子層沉積可應用於DRAM、Flash與Logic製程，特別是DRAM的製作上。Chatterji表示，以現今Logic製程來看，主要仍使用化學氣相沉積與物理氣相沉積設備即可。他指出，使用high-K metal來取代矽材時才需要使用原子層沉積設備，目前Logic製程很多還是使用low-k材料為主。而DRAM架構中已使用metal，因此開始大量使用原子層沉積設備來提高生產力。而原子層沉積設備已可應用在45奈米製程，並有國際大廠已實際導入。Chatterji相信在65奈米以下，將會有越來越多廠商採用原子層沉積來取代現有的技術。SST-AP/Taiwan
圖一：Aviza Technology副總裁暨ALD 事業總經理Subrata Chatterji