KLA-Tencor以最新電漿監視器排除噪音
KLA-Tencor最近推出，用來測量在半導體晶圓處理系統裡電漿腔情況的PlasmaVolt X2機台。此新型感應器晶圓，測量在電漿腔體內晶圓上方的效應，並在它回到FOUP後下載出數據。
KLA-Tencor SensArray部門的市場開發主管Rangesh Raghavan告訴Solid State Technology雜誌，“其他用來評估電漿的機台，例如Langmuir探測器，為單點測量…並無法提供晶圓級的洞察力”。擁有了增加數量而分佈在之前監視系統的獨立崁入感應器，(14)以及改良過的空間解析度，此新型的感應器晶圓，對於不同參數的變化是很靈敏的，例如無線電頻率(RF)功率、氣體流量、磁場以及腔體設計。”新的機台測量影響電漿穩定的所有參數代表的RF電流”，他說道。除了將電子電路安置於一封裝內來微型化產品晶圓外，其他的發明是一種 ”非常優良的” Faraday籠，用來包圍著感應器而使得信號在腔體環境內引取，而不會有噪音產生。
Raghavan告訴SST雜誌說，先前世代的PlasmaVolt為Y型配置，而擁有較少的感應器，以及在晶圓邊緣沒有足夠的取樣。X2機台則擁有重新設計過的配置，來提供晶圓邊緣較佳的特徵化，並且能夠在晶圓的邊緣儘可能維持一致性，此為達成良率的關鍵。
根據Raghavan的說法，新型感應器晶圓已經被兩家最大的DRAM與邏輯微處理機製造廠所採用。它現在也被前4大蝕刻腔OEM廠商中的3家所採用，而第4家正在進行評估程序當中。此新型電漿行為量測與特徵化系統使得腔對腔匹配、機台品質認證、系統故障排除，以及生產環境的製程開發成為可能。SST-AP/Taiwan