ASML：半導體業明後年大復甦 2010年達50億歐元營收目標
于嘉言/荷蘭維荷芬(Veldhoven)採訪報導
荷蘭維荷芬(Veldhoven)，看似有如尋常的歐洲小城般。但此處，卻集合了許多國際知名高科技公司。ASML就是其中一員。ASML傳播副總裁Angelique Paulussen說，ASML總部20層樓建築，在維荷芬已是「第一高樓」，當然也成為當地地標。而ASML還在當地擁有佔地數萬坪以上的潔淨室，為因應明後年產業復甦後的產能，ASML目前還在陸續擴建潔淨室，預計2008年，維荷芬總部將增加約24%的面積。
台灣ACE中心設立 強化全球運籌管理
此外，今年ASML於台北近郊設立了ASML卓越技術中心(ACE; ASML Center of Excellence)，預計將於2008年第二季建置完成後開始運作，未來會專注於技術與應用開發、設備支援、教育訓練、運籌管理和設備維修等服務，同時也將強化設備模組、零組件以及服務的當地採購。目前該公司正積極為ACE進行人才招募，預計在台灣再招募79人以支援亞洲地區需求。而ASML亦宣佈聘任產業經驗豐富的劉興凱擔任台灣區總經理，負責台灣區的營運及管理。劉興凱自七月一日起接替Sunny Stalnaker之職務，Stalnaker則將調任至ASML總部掌管8吋晶圓特殊應用事業部。ASML台灣區總裁陳哲雄則持續負責策略規劃及重要夥伴關係。
今年修正盤整 保個位數成長
ASML執行副總裁暨財務長Peter T.F.M. Wennink表示，今年第四季包括晶圓代工及記憶體供需狀況將趨於平衡，明後年可預見半導體產業將有另一波復甦。Winnink說：「2007年還是成長的市場。就長期來說，產業平均成長率為8%，但其中微影設備市場成長率會超過這個數字。而ASML 在亞洲以外的市場市佔率會增加，均價也會上揚。」 觀察過去五六年，ASML每兩年就會進入一次修正盤整期，而這也符合目前市場整個景氣循環的狀況。Winnink說，2007年邏輯晶片似乎有產能過剩問題，因此整體半導體產業景氣將受影響。但由於45奈米以下TWINSCAN XT 1900型號機台的需求提升，加上市佔率亦提升，因此ASML今年預估仍將有個位數成長。
2006年，微影設備市場的總市值約為50億歐元。ASML自1984年成立廿餘年來，由於其獨特的價值委外(Value sourcing)與併購策略，成為全球最大的微影設備廠，公司總市值超過90億歐元，市佔率則從零到超越60%。而在日本市場以外的亞洲地區，ASML的市佔率更超過70%，微影設備市場的競爭對手也從13家到現在只剩三大微影設備領導供應商。Winnink表示，微影設備市場的變化相當大，而ASML則持續不斷地的成長。根據ASML預計，今年單日本市場佔有率將可成長15%，而美國最大客戶英特爾的支持，使市佔率亦可提升。
出貨亞洲比例最高 研發成本屢創新高
Winnink表示，ASML第一季出貨最多的地區為亞洲，其中光韓國一地即佔31%，台灣亦有15%的出貨量。由於現在12吋晶圓製造已蔚大宗，因此專門製造12吋晶圓的TWINSCAN型號機台出貨即高達九成三。也由於記憶體市場大好，因此今年第一季出貨給記憶體代工廠商的比率將近七成。至於各類型機台方面，ArF機台出貨比例最高近六成，其次則為KrF及I-line等機台。Winnink表示，截至今年第一季為止，ASML接獲訂單達21.63億歐元，訂單數量共148套，手中等待出貨的新機台訂單就達146台，新增訂單達59台。機台平均價格(ASP)則因客戶對新技術需求不斷上升，目前已來到1500萬歐元。他估計有80%的訂單，將在今年第二季及第三季出貨。
ASML多年來持續保持技術領先地位，因此每一代新技術研發成本亦不斷提高，2007年ASML的研發經費接近5億歐元。Winnink表示，ASML的研發夥伴Carl Zeiss每年的研發費用約1.5億歐元，因此共同研發次世代微影技術就要花費6.5歐元，所費不眥。而這樣的研發費用，還高過競爭對手去年的營收數字。另外，Winnink表示：「雖然我們的核心技術是微影，但晶片生產過程越來越複雜，良率越來越難控制，因此製程控管相形重要。因此我們也開始著手發展相關技術。這也表示在我們將微小電路結構圖形印刷在光罩之前，必須先驗證設計圖是否有問題，而在印刷圖樣後，也必須能快速驗證結果。」ASML藉由併購Brion Techno-logy公司並借助該公司強項，來達成微影製程的設計驗證流程及線上驗證的改良。Winnink表示，「ASML併購與整合Brion Technology的過程相當順利，我們還因此發掘更多商機。我們目前根據雙方的產品來開發一套新的介面解決方案，相信可以為客戶帶來新的價值。」
IDM市場穩定 看好晶圓代工復甦力道
Winnink表示，ASML雖進入修正盤整期，但未來兩年半導體景氣仍穩定強健。他表示，在整合元件製造商(IDM)市場方面，由於IDM廠大部份產能皆委外代工，僅對於先進製程研發採購相關設備，因此來自IDM廠的需求相對穩定。在晶圓代工市場部份，由於第一季產能利用率似乎有些下降，因此第一季有不少訂單都延遲交貨，這是全面性的現象。但在IDM大量釋出委外代工訂單後，晶圓代工廠第二季至年底產能利用率應該會提升。而在記憶體市況方面，Winnink表示，ASML內部資料顯示第二季DRAM及NAND市場都處於供給過剩，DRAM廠的訂單已在本季明顯下滑，NAND廠訂單雖不再下跌，但因應擴產所需的新訂單要等到下半年才見起色，所以預估來自記憶體廠產能及需求要到年底才會趨於平衡。他預估DRAM今年成長率估計在33%，快閃記憶體則會到48%。
Winnink表示，如同許多市調機構預估一般，今年各大廠商都將進入盤整期，但下半年後晶圓代工廠訂單回籠，記憶體訂單應會在年底開始回流，明後年設備出貨狀況應十分暢旺，因此他樂觀看待明後年的半導體市場景氣。SST-AP/Taiwan
編按：成立於1984年、總部位於荷蘭維荷芬(Veldhoven)的半導體微影設備領導供應商ASML，全球前20大晶片製造商中有80%以上皆為該公司客戶。2006年，ASML的市場佔有率為63%，遠超過其競爭對手日本佳能(Canon)與尼康(Nikon)。今年六月中，ASML連同其長期合作夥伴德國卡爾蔡司(Carl Zeiss)、比利時IMEC研究機構，邀集台灣、日本、南韓三地媒體參訪，發表其極紫外光微影技術發展現況暨未來藍圖。ASML表示，今年ASML將進入修正盤整期，預估明後年整體半導體產業將有另一波大復甦。ASML亦發下豪語，2010年希望能達成50億歐元的營收目標。本期《半導體科技》將報導ASML各項市場表現及發展策略，下期將繼續報導ASML、Carl Zeiss與IMEC合作開發極紫外光(Extreme Ultra Violet, EUV)技術目前進展。
圖一：ASML荷蘭維荷芬總部
圖二：ASML執行副總裁暨財務長Peter T.F.M. Wennink