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FSI亞洲區KSS研討會順利落幕 協助IC廠商掌握最新表面處理技術和產業趨勢

   日期:2008/8/12   來源:半導體科技    

全球性半導體製程設備、技術及支援服務商FSI International於亞洲地區舉行的Knowledge ServicesTM系列研討會(KSS),已於四月分別在韓國首爾、新加坡、上海、新竹以及台南等城市舉行。自從FSI於2004年開始舉辦KSS系列研討會以來,全球各地已有超過1,000位IC專業人員參加過這一系列免費的單日研討會。KSS協助半導體製造商進一步瞭解影響產業的各種議題與趨勢,包括最先進的表面處理技術。
 FSI主席暨執行長Don Mitchell表示,隨著技術演進,半導體製造商面臨許多直接影響他們事業的新挑戰。FSI一直致力協助客戶更加瞭解這些產業的挑戰和最佳因應之道,而我們的Knowledge Services系列研討會正可為產業人士創造一個可以互相交流與學習的環境。
 全日研討會包括一場主題為「微粒附著與清除基本原理」(Fundamentals of Particle Adhesion and Removal) 的簡短教育課程。此外,有多家半導體製造商和FSI技術專家發表包含IC產業各種相關議題和趨勢的專題演講與技術報告。來自MagnaChip、三星電子、海力士半導體、Gartner Dataquest、特許半導體、中芯半導體以及聯電等各廠商的代表在不同地點發表演講和提出技術報告。與會人士也在研討會的技術單元裡討論全球產業推動力量、鎳與鎳鉑去除,全濕式光阻去除、無損害式微粒去除、超低瑕疵率與選擇性氮化蝕刻製程等相關議題。SST-AP/Taiwan
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