專為XRETs的光罩檢驗系統
型號Starlight-2的下世代光罩檢驗系統提供光罩的污染檢查，並可用於65奈米及以下世代的終極解析度增強技術(extreme resolution enhancement technique，XRET)光罩。據報導，與上一代產品Starlight比較起來，此系統使用了革命性的影像處理技術，在性能上還設計了可偵測累進的缺陷。利用此套系統，晶圓廠可以施行光罩二次評定，藉由最大化先進微影製程窗口大小來最大化產能。其較小的像素(125奈米與90奈米)提供所需的解析度和感度，可以偵測在具有最小的圖案線路之元件層上的光罩污染物。Starlight-2的改良過的演算法可以在高密度圖樣線路區域進行污染偵測，而且全域的檢測能力可以在圖樣區、邊界、單晶方與多晶方光罩上進行檢測。Startlight-2與前一代產品Starlight平台有相同的速度。
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