諾發系統推出全新的乾式光阻去除與洗淨系統

2008/5/22
諾發系統公司宣佈，針對全世界的晶圓廠和晶圓代工廠不同的光阻去除需求，推出兩種乾式光阻去除與洗淨系統。G400和GxT是以諾發系統經過產品驗證的 GAMMA平台為基礎建立。這些新的工具能解決快閃記憶體、DRAM 和邏輯元件產品對於高吞吐量和低瑕疵率的要求。兩個系統都已完成出貨手續，第一部 G400 系統由亞洲一家大型記憶體製造商購買，而亞洲有好幾家大型晶圓代工廠則是購買 GxT。

　G400 是針對主要在大型 DRAM 和快閃記憶體晶圓廠中應用的大批光阻去除和高劑量灌輸剝離 (HDIS) 而製造，也是業界吞吐量最高的光阻灰化系統。強化的基本技術結合更快速的晶圓加熱以提高灰化率，系統因此在大批光阻去除作業中每小時可同時處理 400 顆晶圓，而在灌輸剝離作業中每小時則可處理 300 顆晶圓。 G400 將新的高灰化率技術結合最佳化的系統設計，比較之前的業界標準，可提高最多 25% 的生產力。

　GxT 以要求減少矽流失和極低瑕疵率的重大邏輯元件製程為訴求對象，為光阻去除作業 (包括 HDIS 和超級 HDIS) 及後段 (BEOL) 洗淨作業提供進階的功能。 GxT 得力於諾發系統經過產品驗證的多站序列製程 (MSSP) 設計，提供多個處理區以方便處理複雜的製作方法和化學作用。系統的 SmartFlow 氣體分散技術可以個別地逐站控制氧化情況和減少化學作用。

　諾發系統表面處理事業群副總裁和總經理凱文詹寧斯( Kevin Jennings)表示：「由於 IC 製程越來越複雜，因此更加需要專業化、專用的工具，如最佳化的 G400 和 GxT，來滿足不同的客戶需求。當光阻去除系統應用在著重成本考量的記憶體產業時，必須在貢獻最高生產力的同時將持有成本降至最低。另一方面，若應用在追求進階技術的邏輯元件產業時，則必須減少矽的流失、維持極低的瑕疵率和必要的洗淨功能。隨著這些工具的面世，將進一步鞏固本公司在光阻去除和洗淨系統市場的領導地位。」

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