Suss和Philips研發新的奈米壓印技術

2008/5/6
Suss MicroTec和Philips Research表示，他們正合作研發一種新的奈米壓印微影技術，目標是50奈米以下圖樣利基市場，在小的剛性印記和大的軟性印記之間。

　該技術被稱為「基板完整壓印微影技術(substrate conformal imprint lithography，SCIL)」，「橋接彼此間的差距」在用於頂端解決方案的小的剛性印記，以及低於200奈米、有限制轉印方案的大區域軟性印記。它提供了「最好的兩個世界」，他們說-有著可複印大面積壓印能力、沒有印記變形(無接觸力影響)、無運用紫外線的室溫保存和高圖像比超過1：5。

　處理150-200mm紫外線微影技術的Suss工廠同步平台，也將升級以容納新技術。樣品現已面市，市場推廣定於今年稍晚展開。

　SUSS 微影部門經理Rolf Wolf表示，「SCIL技術代表一個有利的新技術，為進一步奈米壓印的商品化鋪平了道路。」「與Philips Research的合作，大大拓寬了奈米壓印過程中，我們能提供給客戶的範圍。」

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