Fujitsu增加LSI業務支援鞏固日本三重廠 |
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2008/1/29
Fujitsu表示，它將於下個會計年度(2008年三月)附加其LSI業務部門到新的子公司，此舉是為了專注和刺激ASSP和ASIC業務成長。作為公司策略的一部分，該公司正轉向開發及量產原型90奈米以下的晶片製程技術，並轉移給在日本中部的三重廠，該公司表示，將「努力加快發展」45奈米及其後製程。
新的計劃基本上是指技術的轉移，從該公司位於東京西部的Akiruno技術中心(ATC)，該中心在2000年七月建造，集中了Fujitsu集團LSI的開發和設計資源。ATC是Fujitsu先進的LSI技術和開發設計部門，在2001年底開始發展200mm晶圓原型。從哪時起，Fujitsu已在ATC完成90奈米製程的超低功率和超高邏輯LSI，並完成目前在三重廠300mm生產線上使用的90-65奈米製程技術。而其他的0.13-μm製程(150-200mm)則是在日本的三重、會津若松和Iwe廠完成。
Fujitsu表示，自ATC的200mm生產線的開發轉移至Mie的300mm生產線，「將加快45奈米及其後製程技術的發展並維持大規模生產的適應性」。設備轉移定於2008年3月，45奈米製程開發則預計於2008年會計年度的時間內完成。
至於將來的ATC，Fujitsu表示，它仍將是公司集團下的一座廠房。改組費用估計為100億日圓(約9360萬美元)，對近期財務影響的結果尚未確定。
新的模式稱呼為「新IDM模式」(即Fujitsu集團和外部合作夥伴的設計-開發-製造工作)，Fujitsu目標是堅持其先進製程技術的「核心競爭力」、IP和「先一次性成功完全運行」LSI系統設計能力。(即第一次嘗試的成功，從最初的原型晶片)
Fujitsu設備解決方案部分佔2007年4-9月總銷售額的15.8％，相當於3979億日圓(34.6億美元)，比2006年同期成長5％，具體的銷售歸因於LSI元件成長9.2％至2579億日圓(24.1億美元)。
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