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多年來,離子植入設備供應商主要在產能與擁有成本的差異上進行競爭,邁入32奈米與22奈米製程的挑戰,開啟了新的機會,離子植入製程業已接軌,成為未來技術節點進行晶片製造的重點技術。
一開始,離子植入即為主力製程,VLSI電路因植入技術的固有精確度而能製造。具體而言,離子植入能讓MOSFETs得到準確的臨界調整電壓(threshold adjust voltages
目前在影像感測器模組測試上,再也不需因為一堆縮寫(acronyms),測試設備(test equipment),以及圖表(charts),而感到困惑。只需有清楚的目標和一些技術竅門作輔助,如此便可將繁雜的工作簡化成少許的一些主要步驟(key steps),例如:材料選擇(material selection)、電性設定(electrical set-up),以及模組品質測量(m