產業競爭愈益激烈，當所使用的玻璃基板面積越來越大的同時，成本的考量就越來越重要。不管是TFT LCD、PDP還是OLED，在製程中都一定會遇到大量的玻璃基板清洗（glass cleaning）與表面處理製程；如果可以在玻璃基板清洗製程中採用新的方法，使製程的成本更低，而且又不影響應有的品質，這樣新的製成與設備技術，將有機會取代原有的製程與設備。
使用常壓電漿技術對於表面清潔而言，是一個十分有效而且節省製程成本的工具，目前業界也已經推出對應大世代TFT LCD所需之清洗設備機台，取代傳統EUV燈管更換頻繁、性能波動變化的缺點。雖然初始建構成本較高，但其表現性能是呈穩態輸出，維護成本也相較便宜。
但使用UV光燈管有燈管壽命的問題(約每一千小時就要更換)，於操作期間，燈管之性能也會隨時間增長而降低，因此於維持製程穩定性與均一品質之議題將成為複雜之問題。
目前電漿清潔仍以去除有機污染為主，對於顆粒較大的手紋、或灰塵則無法取代濕式製程。
2. 大氣電漿清潔處理技術與設備介紹[1]
2-1 化學反應
化學反應為電漿清潔的最主要機構，加速電漿中的電子，使電子與氣體分子如氧氣、氫氣反應產生氧原子、臭氧及氫原子(圖2-1-1(a)(b))，如式(1)~(3)。這些粒子的反應性非常強，一與物體反面的有機分子碰撞即起反應，並生成穩定的碳氫分子、碳氧分子或水分子，如式(4)(5)。氧原子的反應性比氫原子強，因此在大部份的清潔應用上會優先選擇氧電漿，但是氧原子會將金屬氧化(式(6))，氫原子則可以金屬氧化物...more 
