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<span style="font-size: 10pt">延長摩爾定律的工作將越來越依賴高精密製程技術以製作出具有高品質薄膜表面的微小元件。在小於14奈米的技術節點中,電晶體的性能非常容易受到的製程變異的影響,會造成漏電流升高及電池耗電的現象。針對這些挑戰我們可以預期在未來的10年內,電晶體的柵極尺寸將低於50個原子寬度,特徵尺寸的變異將以原子等級的尺度測量,包括表面粗糙度的
目前在影像感測器模組測試上,再也不需因為一堆縮寫(acronyms),測試設備(test equipment),以及圖表(charts),而感到困惑。只需有清楚的目標和一些技術竅門作輔助,如此便可將繁雜的工作簡化成少許的一些主要步驟(key steps),例如:材料選擇(material selection)、電性設定(electrical set-up),以及模組品質測量(m