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最近眾人對EUV的信心提高了,因為IBM發表報告,稱其在Albany的EUV Center of Excellence將40W光源安裝在ASML NXE3300B掃描儀上並且得到不錯的成果。在中焦段區測量的結果顯示此升級獲得比44W EUV光源更好的投射特性,並且已經在晶片上以光阻驗證完成。在升級後的第一個24小時內已經可以用正常生產模式完成637片的曝光工作。IBM的EUV開
目前在影像感測器模組測試上,再也不需因為一堆縮寫(acronyms),測試設備(test equipment),以及圖表(charts),而感到困惑。只需有清楚的目標和一些技術竅門作輔助,如此便可將繁雜的工作簡化成少許的一些主要步驟(key steps),例如:材料選擇(material selection)、電性設定(electrical set-up),以及模組品質測量(m